什么是光刻胶？
光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。
在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶，如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。
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按照曝光波长分类，可分为紫外光刻胶（300~450nm）、深紫外光刻胶（160~280nm）、极紫外光刻胶（EUV，13.5nm）、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X 射线光刻胶等。通常来说，波长越短，加工分辨率越佳。
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按应用场景来看，光刻胶的三大应用领域分别为 PCB、面板和半导体。用于 PCB、显示面板的光刻胶，分辨率要求并不高。而目前半导体用光刻胶主要分为 5 个种类：g 线光刻胶，i 线光刻胶，KrF 光刻胶，ArF 光刻胶和 EUV 光刻胶。随着芯片制程工艺的不断进步，对光刻胶分辨率的要求也越来越高，从微米级到现在纳米级的蚀刻，甚至将来可能到原子级的蚀刻。
生产光刻胶的原料包括光刻胶树脂、单体、光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）及其他助剂等。数据显示，树脂占光刻胶总成本的 50%，在光刻胶原料中占比最大，其次是占 35% 的单体和占 15% 的光引发剂及其他助剂。
国内外主要光刻胶生产商大盘点
国外主要光刻胶生产商
JSR（原日本合成橡胶有限公司）成立于1957年，产品涵盖G/I线、KrF、ArF（干法/湿法）和EUV光刻胶等，是全球光刻胶第一生产商。目前，JSR光刻胶全球市占率约13%，半导体光刻胶市场份额约28%，位居全球第一。
1979年，JSR进入半导体材料业务，开始销售首个光刻胶产品CIR；
2004年，JSR首次通过ArF沉浸式光刻成功实现了32nm分辨率，引领了巨大的的技术变革；
2006年，JSR又与IBM 合作，通过ArF沉浸式光刻成功实现了30nm及更小的线宽。
2011年，JSR 与SEMATECH 联合开发出用于15nm工艺的化学放大型EUV光刻胶；
2016年，JSR和IMEC在2016年成立了EUV光刻胶制造合资企业-EUV抗蚀剂制造和鉴定中心（EUV RMQC）；
2017年， JSR、三星创投、Intel Capital等公司投资了EUV光刻胶先驱Inpria。Inpria生产了一种包含氧化锡的EUV光刻胶，这种光刻胶具有良好的灵敏度，将EUV的吸收效率提升了4倍，并且可以实现更简单的制造流程和更大的工艺窗口。
2021年9月17日，JSR宣布将以5.14亿美元收购美国光刻胶生产商Inpria，进一步扩大光刻胶市场份额。
东京应化成立于1936年，为全球领先的半导体光刻胶生产商，产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。
1968年，东京应化研发出首个环化橡胶系光刻胶产品MOR-81；
1972年，东京应化年开发出日本首个重氮醌类光刻胶OFPR-2；
20世纪80年代进入到g线/i线光刻胶业务-TSMR产品；
2006年，东京应化开始研发ArF浸没光刻胶所需技术。
信越化学成立于1926年，前身为信越氮肥料株式会社，为日本最大的化工企业。1998年，信越化学实现光刻胶产品的商用化，主营光刻胶产品有I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF（干式和湿式）、EUV光刻胶。
信越化学光刻胶业务隶属于电子和功能材料部门，利用其材料制造商的优势，信越化学从原料聚合物的合成到化合进行一体化生产。信越化学KrF和ArF光刻胶被用于蚀刻半导体电路的光敏材料，厚膜i线光刻胶被广泛用于薄膜磁头和MEMS应用。
2020年10月，据日经新闻报道，信越化学宣布将耗资约300亿日元（约合人民币17.43亿元），将半导体厂重要材料光刻胶的产能调高20%，借此为先进芯片的生产扩大供应。
据了解，信越化学将在台湾云林和日本直江津各设立一个新厂房，预计台湾云林厂将在2021年正式量产，提高50%针对台湾客户的产能。届时，信越化学将开始在台湾生产这种适合用于先进极紫外光（EUV）光刻技术的光刻胶，以往这种材料只在日本生产。信越化学希望此举能满足台积电等客户攀高的需求。
此外，信越化学直江津工厂的新设备预计在2022年2月开始运作，将提高20％的产能。
富士胶片成立于1934年，最早致力于感光材料产品的生产。在胶片时代，富士胶片的照相机胶卷、光学素质和相关冲印材料长期处于行业领导位置。富士胶片基于在胶片业务中积累的光学和化学优势，将业务板块延展为医疗&材料解决方案、文件解决方案、影像解决方案三大业务及9个子板块，并实现业绩的稳定增长。
富士胶片的光刻胶业务隶属于医疗&材料解决方案中的高功能材料板块。目前，富士胶片的光刻胶产品覆盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等。《日刊工业新闻》透露，富士胶片已正式启动EUV光刻胶业务，目标在2024年之前获得全球10%市占率。
东进世美肯成立于1967年，在韩国内首家开发PVC以及橡胶发泡剂，在发泡剂领域取得成功后，借助韩国国内电子产业基础和产业政策的支持，迅速在电子材料领域崛起。
1983年，东进世美肯以EMC项目为起点进入半导体材料领域，并着手开发半导体用光刻胶，1990年取得成功，使得韩国成为紧随美国、德国、日本之后的全球第四个掌握该项技术的国家。1995年发安工厂竣工后，东进世美肯开始引领原来完全依赖进口的半导体材料国产化。
1999年，东进世美肯在台湾设立当地法人，开始了海外市场的拓展。
2000年，发安工厂2期工厂竣工，随后依次创建了台湾工厂（2001）、北京工厂（2004）、 启东工厂（2006）、成都工厂（2009）、合肥工厂（2010），目前已经是京东方的最主要的湿电子化学品供应商。
东进世美肯目前产品系列众多，大类可分为光刻胶、湿电子化学品、显示材料， 具体包括光刻胶、显像液、研磨剂、LCD液晶、OLED发光 材料等等，下游应用遍布平板显示、集成电路、触摸屏等领域。
据韩媒报道，2021年5月25日，东进世美肯在京畿道华城巴兰的工厂举行了新光刻胶制造大楼的竣工仪式和产品交付仪式，其投资200亿韩元的新半导体光刻胶工厂全面运营。首席执行官Jun-h-hyuk表示计划在这里生产EUV光刻胶。
住友化学成立于1913年，是日本的大型综合化学公司之一，业务主要包括石油化工、能源和功能材料、信息电子化学、健康和农业相关业务、健康等，其光刻胶业务属于信息电子化学，主要包含i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等。
2021年8月31日，住友化学宣布，基于5G市场需求的持续增加，住友化学决定扩大半导体光刻胶的产能。
据了解，住友化学将在大阪工厂（日本大阪的Koonohana-ku）新增ArF（浸入式）和EUV（极端紫外线）光刻胶生产线，并在韩国全资子公司东宇精细化工有限公司的Iksan工厂为射频浸入式平板摄影器建造一个新的光刻生产厂。住友化学表示，新生产线将于2023财年上半年开始运营，大阪工厂将于2024财年上半年投产。
新设的韩国工厂将生产ArF(氟化氩)光刻胶。ArF光刻胶是在半导体晶片上印刻电子电路时使用的尖端材料，住友化学此前一直在大阪工厂生产该材料。今后将把日本国内原料调配到韩国工厂，而后混合出货。
住友化学方面解释说：“ArF光刻胶并非指定的限制韩国出口的品类。”但有分析认为，在最近接连发生的日本半导体材料制造企业对韩国的投资，不能否定是出口限制措施影响。
国内主要光刻胶生产商
南大光电成立于2000年，是专业从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售的高新技术企业。
成立之初，南大光电主要从事高纯金属有机化合物（MO源）光电子材料的研发、生产。
自2017年起，南大光电先后承担国家“02专项”高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发项目和ArF光刻胶产品开发与产业化项目。历经3年，南大光电已制备出国产自主可控的ArF光刻胶产品， 满足产业化的技术条件。
2020年12月，南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过武汉新芯的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，打破了我国高档光刻胶受制于人的局面。
2021年5月，南大光电ArF光刻胶产品在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破。
目前，南大光电建有ArF光刻胶产品大规模生产线，将形成年产25吨ArF（干式/浸没式）光刻胶产品的生产能力，产品性能可以满足90nm-14nm集成电路制造的要求。
彤程新材成立于2008年，电子化学品业务主要涵盖半导体光刻胶及配套试剂、显示面板光刻胶和电子级酚醛树脂。
2020年，彤程新材通过外延并购实现光刻胶业务布局，其子公司北京科华和北旭电子分别为国内半导体光刻胶和面板光刻胶领先企业。其中，北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，其研发进度国内领先，KrF光刻胶实现量产。北旭电子是国内首家TFT光刻胶制造商，国内市场整体占有率近20％。
同时，彤程新材积极向光刻胶上游布局，发挥产业链协同优势。通过建立电子级酚醛树脂生产线，着力研发G／I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶生产所需的树脂。
此外，彤程新材加速光刻胶产能拓展满足国内市场需求，先后规划1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，并建设年产5000吨电子级酚醛树脂生产线。
此外，彤程新材还建立了光刻胶研发实验室和电子级树脂研发平台，不断深入电子化学品布局。彤程新材客户涵盖国内主流厂商，包括中芯国际、上海华力微电子、长江存储、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电等。目前是全球领先的新材料综合服务商。
上海新阳成立于1997年，2011年在深交所二十年来，上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术。
紧密围绕两大核心技术，上海新阳开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90-28nm工艺技术要求，相关产品已成为多家集成电路制造公司28nm技术节点的基准材料，成为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。
此外，上海新阳已立项研发集成电路制造用高分辨率193nmArF光刻胶及配套材料与应用技术。目前，KrF光刻胶产品已取得订单，ArF干法光刻胶尚在认证当中，合肥第二生产基地项目正在按计划建设当中。
徐州博康成立于2010年，专注于光刻胶原材料到成品的自主研发及生产，实现了从单体、专用树脂、光酸剂及终产品光刻胶的国产化自主可控的供应链，是中国目前唯一一家可以规模化生产中高端光刻胶单体材料的企业。
目前，徐州博康产品线涵盖193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品。目前，徐州博康已成功开发出十余个高端光刻胶产品系列，包括多种电子束胶、ArF干法光刻胶、KrF正负型光刻胶、I线正负型光刻胶及GHI超厚负胶，覆盖IC集成电路制造、IC后端封装、化合物半导体、分立器件、电子书等市场应用领域。
2012年，徐州博康单体产品通过日本东京合成橡胶JSR认证；
2013年开始陆续向JSRTOK三星等日韩光刻胶公司供应单体。
2021年6月，徐州博康新建年产1100吨光刻材料及1万吨电子溶剂新工厂投产。该项目全部达产后，可实现年产值20亿元，这也是中国目前第一个可以规模化生产中高端光刻胶的生产基地。
晶锐电材成立于2001年，是一家集研发、生产和销售于一体的微电子新材料公司，主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等，广泛应用于半导体、面板显示、LED等泛半导体领域及锂电池、太阳能光伏等新能源行业。
1976年，苏州中学校办光刻胶研发室成立，这是晶瑞电材最初的起源地，也是中国最早研发光刻胶的团队之一。
2001年，晶瑞电材正式成立，并于2011年收购苏州瑞红部分股份；2017年，晶瑞电材上市，苏州瑞红成为全资子公司；2018年，晶瑞电材I线光刻胶量产，产能达100吨/年。
目前，其光刻胶产品由子公司苏州瑞红生产，苏州瑞红作为国内光刻胶领域的先驱，规模生产光刻胶近30年。晶瑞电材紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线等高端产品已规模供应市场数十年；i线光刻胶近年已向中芯国际等企业供货；高端KrF（248）光刻胶已完成中试，建成了中试示范线，目前已进入客户测试阶段；ArF高端光刻胶研发工作已启动，为适应行业现状带来的发展机遇，已在设备投入、人才引进等方面加大投入。此外，晶瑞电材还承担并完成了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目。
容大感光成立于1996年，是一家专业生产高端感光化学材料的国家级高新技术企业，光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。
2021年9月27日，容大感光发布公告称，拟在珠海经济技术开发区投资6亿元建设感光干膜、平板显示光刻胶、半导体光刻胶产品等项目。
来源：信达证券、国联证券、各企业官网、新材料在线、半导体行业观察、天眼查、势银膜链等，化工
