荷兰的光刻机技术强大主要靠ASML，ASML成立于1984年，由飞利浦与先进半导体材料国际（ASML）合资成立，总部位于荷兰的费尔德霍芬。1995年，ASML收购了菲利普持有的股份，称为完全独立的公司。
而ASML之所以能够做到全球光刻机的霸主地位，我觉得主要有几下几个原因。
强大的研发投入
光刻机是一个高精尖的技术，其技术难度是全球公认的，如果没有持续强大的研发投入根本不可能到技术领先。ASML从成立至今，对于研发的投入都非常大，比如2019年ASML的销售额大概是21亿欧元，而研发费用支出就达到了4.8亿欧元，研发费用占营收的比例达到22.8%，这个比例是非常高的，正因为有大量资金的投入，所以ASML在关键技术领域一直处于领先地位。
从1991年PAS 5000光刻机面市取得巨大成功开始，再到2000-2001年具有双工作台、浸没式光刻技术的Twinscan XT、Twinscan NXT系列研制成功，到强大的研发投入让ASML的技术一直处于全球领先。
美国以及欧盟的支持
虽然ASML是一家荷兰公司，但他背后却有着欧盟以及美国的力量，多关键技术都由美国以及欧盟国家提供。比如德国先进的机械工艺以及世界级的蔡司镜头，再加上美国提供的光源，这就使得ASML公司在光科技术方面飞速发展，几乎到达了无人能敌的境地。
因为背后有美国的力量，所以ASML一直以来都禁止向中国出口高端光刻机。
准确抓住了技术转折点
目前世界最顶尖的光刻机有三个厂家，分别是ASML，尼康和佳能。2007年之前这三大厂家其实并没有太大的差距，竞争的转折点是出现在2007年。2007年ASML配合台积电的技术方向，推出了193纳米的光源浸没式系统，在光学镜头和硅晶圆片导入液体作为介质，在原有光源与镜头的条件下，能显著提升蚀刻精度，并成为高端科技的主流技术方案。而当时日本的尼康与佳能却主推157纳米光源的干式光刻，这个路线后来被市场所放弃，也成为尼康跟佳能迈入衰退的一个转折点，后来才有了ASML的垄断。
技术分工与合作
虽然ASML的研发人员占员工总数的比例达到4成左右，但是ASML很多技术都是外包，这样可以让ASML专注于核心技术与客户需求，大大提高研发的效率。
对细分技术领域企业的控制
生产光刻机对技术的综合要求非常高，这里面涉及很多技术领域，为了获得全球最顶尖的技术，ASML先后投资了很多企业。比如2007年收购了美国的Bion，强化了专业光刻检测与解决方案能力；2013年完成对紫外光源龙头 Cymene的收购，2016年获得光学镜片龙头德国蔡司24.9％的股份，这两项投资进一步加强了ASML在极紫外光领域的领先优势。
PS：
EUV（极紫外光源）光刻机，是生产7nm制程芯片必不可少的设备，我们熟知的华为麒麟芯片、高通骁龙芯片，三星Exynos芯片的制造都离不开该设备。可以说没有EUV光刻机就生产不出顶级的处理器，如果台积电不给华为代工，华为就得退出中高端手机市场！
目前仅有由荷兰飞利浦公司发展而来的ASML（阿斯麦）一家可提供可供量产用的EUV光刻机，在全球市场处于绝对垄断地位。因此ASML对于EUV光刻机的供货重要性不言而喻，同时一台光刻机的价值不菲，超过一亿美元！
EUV光刻机制造难度极高，基本代表着人类科学技术，工业制造各领域最高成果。需要多个国家、多个领域顶级公司同力合作，才能制造出来，基本代表着人类科学技术的顶峰！EUV光刻机在研发初期耗费了大量的资源，三星、台积电、英特尔共同向ASML注资52.59亿欧元，用于支持EUV光刻机的研发。随后ASML收购了全球领先的准分子激光器供应商Cymer，并以10亿欧元现金入股德国著名光学系统生产商卡尔蔡司，加速EUV光源和光学系统的研发进程，这两次并购也是EUV光刻机能研发成功的重要原因。
EUV光学透镜、反射镜系统需要极高的精度。举例来说，一台EUV机台得经过十几面反射镜，将光从光源一路导到晶圆，最后大概只剩下不到2%的光线。反射镜的制造难度非常大，精度以皮米计（万亿分之一米）。ASML的总裁曾说过，如果反射镜面积有德国那么大，最高的凸起不能超过1公分。
光刻机光刻过程必须在真空中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计。（备注：皮秒=兆分之一秒）EUV除了售价高昂，技术复杂之外，耗电能力也十分恐怖。驱动一台能输出 250 瓦功率的 EUV的机台，需要输入0.125万千瓦的电力才能达到，换句话来说，就是一台输出功率250W的EUV机器工作一天，将会消耗3万度电，这个数字确实吓人。由于极紫外光的固有特性，产生极紫外光的方式十分低效，世界第二大内存制造商、韩国的 SK 海力士代表曾表示，“EUV 的能源转换效率（wall plug efficiency）只有 0.02% 左右。”
